“光刻機”造句，怎麼用光刻機造句

本文從投影光刻機的圖形傳遞要求出發，匯出投影光刻機各主要光學系統的具體要求，並討論這些引數確定的侷限*。

Gigaphoton原為小松和Ushio各佔50%股份的合資公司,這家公司於2000年8月份成立，主要業務是開發，製造和銷售光刻機用準分子鐳射器光源，併為顧客提供服務，同時還有研發製造248nm/193nm（乾式/液浸式系統）光刻機。

隨著光刻特徵尺寸的不斷減小，尤其是隨著分辨力增強技術的使用，像質引數的原位檢測已成為先進的投影光刻機中不可或缺的功能。

據報道Intel正在使用這款光刻機開發其22nm節點製程邏輯晶片產品.目前尼康是Intel32nm製程晶片關鍵層製造用光刻裝置的獨家供應商。

尼康和ASML在高階光刻機領域是一對死對頭，不過兩家公司的EUV戰略有著顯著的不同之處。

介紹了一種基於線陣Ccd的光刻機調焦調平系統，討論了其檢測和控制原理。

相對於傳統PID主從同步控制方法，同步偏差的移動平均差減小18.2%，移動標準差減小61.5%，可以保*光刻機的曝光效果。

晶圓處理系統是光刻機的重要組成子系統，其包含兩個主要部分：晶圓傳輸系統和晶圓預對準系統。

儘管由於近期智慧手機和平板電腦的風行令小尺寸LCD面板表現較為活躍，但尼康第三季度售出的18臺LCD光刻機中仍有12臺是面向大尺寸面板（7/8G）的產品。

成像質量是光學光刻機的最主要指標，矽片調焦調平測量是光刻機控制成像質量的基礎。

提出了一種面向步進掃描投影光刻機的深紫外準分子鐳射實時曝光劑量控制演算法。

著重介紹了當前國外步進掃描投影光刻機的工件臺和掩模臺的發展狀況，並對套刻精度和整機精度進行了分析

著重介紹了當前國外步進掃描投影光刻機的工件臺和掩模臺的發展狀況，並對套刻精度和整機精度進行了分析。

而尼康則目前還沒有*式EUV光刻機上市，不過這家公司製造了兩臺研發用EUV光刻裝置，其中一臺放在尼康日本總部使用，而另外一臺則供給日本的一個研究組織Selete使用。

在這些模型和演算法中存在大量的引數需要辨識與校準，引數辨識與校準直接影響光刻機工件臺的運動精度。

鐳射光刻機是一種矮科技的制卡和會員卡製作擺設。

由於市場對尼康193 nm液浸式光刻工具的需求有所抬頭，加上尼康lcd用步進光刻機業務情況相對穩定。

德國米銥公司提供的電容式位移感測器被用於以奈米級的精度校準晶片光刻機中鏡片的位置，測量晶圓厚度等應用。

荷蘭ASML公司作為全球三大光刻機整合生產商之一，通過不斷的技術創新，在全球光刻機市場上居於領先地位。

另外，尼康光刻機業務也開始扭虧為盈。

介紹投影光刻機裝置的晶片傳輸系統中切邊探測和晶片預對準技術