“光刻工藝”造句，怎麼用光刻工藝造句

在厚膠光刻工藝中重點解決了膠膜厚度的均勻*、膠膜與襯底的粘附*、大厚度差膠層的曝光、顯影條件等的優化問題。

套準精度-在光刻工藝中轉移圖形的精度。

通過對光刻工藝過程的研究，可為較好地控制正*光刻膠面形，製作微機械、微光學器件提供了參考依據，對微浮雕結構的深刻蝕具有重要的指導意義。

在一塊玻璃基板上制有透明的條紋電極，條紋電極用光刻工藝製作，而另一塊玻璃基板上則為連續電極。

本文的模擬結果不僅能為高能電子束光刻工藝優化曝光條件、降低鄰近效應提供理論指導，而且能為進一步的鄰近效應的校正提供更精確的資料。

最終通過yield的比較說明抗反*層在現代光刻工藝中的作用。