光刻膠是一種應用廣泛的光敏材料，其合成路線如圖（部分試劑、反應條件和產物已略去）：已知：Ⅰ．（R1、R2為烴基...

問題詳情：

光刻膠是一種應用廣泛的光敏材料，其合成路線如圖（部分試劑、反應條件和產物已略去）：已知：Ⅰ．（R1、R2為烴基或*） Ⅱ．（R1、R2為烴基）（1）A分子的名稱為______，B分子中所含官能團的名稱為______，由C到D的反應型別為______；（2）乙炔和羧*X發生加成反應生成E，E的核磁共振*譜有三組峰，且峰面積比為3：2：1，E能發生水解反應，則E的結構簡式為______；（3）D和G反應生成光刻膠的化學方程式為______；（4）C的同分異構體滿足下列條件： ①能發生銀鏡反應，其水解產物之一能與FeCl3溶液發生顯*反應；②分子中只有一個環狀結構。滿足上述條件的同分異構體有______種。其中苯環上的一*取代產物只有兩種的同分異構體的結構簡式為：______ （5）根據已有知識並結合本題資訊，寫出以 CH3CHO為原料製備CH3COCOCOOH的合成路線流程圖（無機試劑任用，合成路線流程圖示例見本題題幹）______。