“非晶矽薄膜”造句，怎麼用非晶矽薄膜造句

*頻輝光放電矽*電漿體化學汽相沉積是製備*化非晶矽薄膜的主要工藝技術。

二百許多探測器技術以非晶矽薄膜電晶體陣列為基礎發展起來了，可是最成功和廣泛應用的探測器被稱為“間接”探測器。

介紹了一種非晶矽薄膜低溫晶化的新工藝———金屬誘導非晶矽薄膜低溫晶化。

本文介紹用直流輝光放電裝置製備非晶矽薄膜。

本文較系統地評述了光誘導化學汽相澱積（LCVD）技術澱積非晶矽薄膜的開發現；

主要介紹了LCVD 澱積非晶矽薄膜的機理； 評價了LCVD 澱積非晶矽薄膜的電學和光學特*。

利用鐳射對AMLCD進行非晶矽薄膜的退火和電路缺陷的修復，可有效的改善AMLCD的*能，提高成品率和降低成本。

單晶矽和多晶矽體太陽能電池成本居高不下，非晶矽和非晶矽薄膜太陽能電池又有光致衰退效應的困擾。