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雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中...

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問題詳情:

雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:

雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中...

已知:

雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第2張

雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第3張+HCl

(1)B分子中含有的官能團名稱是___。

(2)該CPPO結構中有___種不同化學環境的*原子。

(3)反應④的化學方程式是___。

(4)在反應①~⑧中屬於取代反應的是___。

(5)C的結構簡式是___。

(6)寫出F和H在一定條件下聚合生成高分子化合物的化學方程式___。

(7)資料顯示:反應⑧有一定的限度,在D與I發生反應時加入有機鹼三乙*能提高目標產物的產率,其原因是___。

【回答】

【*】    (1). 羥基    (2). 3    (3). CH2=CH2+Br2→BrCH2﹣CH2Br    (4). ②③⑤⑧    (5). 雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第4張    (6). 雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第5張+(2n-1)H2O    (7). 有機鹼三乙*能跟反應⑧的生成物HCl發生反應,使合成雙草*酯的平衡右移

【解析】

【詳解】根據流程圖可知,反應①為CH2=CH2與HCl發生加成反應生成A,A為CH3CH2Cl,A發生水解反應生成的B為CH3CH2OH。乙烯與溴發生加成反應生成的E為BrCH2CH2Br,G能與銀氨溶液反應,則E發生水解反應生成的F為HOCH2CH2OH,F發生氧化反應生成的G為OHC﹣CHO,G發生銀鏡反應後*化,則H為HOOC﹣COOH,H發生資訊①中的取代反應生成的I為ClOC﹣COCl。B與C反應得到D,D與I發生資訊②中的反應得到CPPO,由CPPO的結構可知,D為雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第6張,則C為雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第7張

(1)由上述分析可知,B為CH3CH2OH,分子中含有的官能團名稱是:羥基,故*為:羥基;

(2)由CPPO的結構簡式可知,CPPO分子中有3種不同化學環境的*原子,故*為:3;

(3)反應④是乙烯與溴發生加成反應,反應化學方程式是CH2=CH2+Br2→BrCH2﹣CH2Br,故*為:CH2=CH2+Br2→BrCH2﹣CH2Br;

(4)在反應①~⑧中,①④屬於加成反應,⑥⑦屬於氧化反應,②③⑤⑧屬於取代反應,故*為:②③⑤⑧;

(5)由上述分析可知,C的結構簡式是雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第8張,故*為:雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第9張

(6)HOCH2CH2OH與HOOC﹣COOH發生所縮聚反應生成高分子化合物,反應方程式為:雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第10張+(2n-1)H2O,故*為:雙草*酯(CPPO)是冷光源發光材料的主要成分,合成某雙草*酯的路線設計如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第11張+(2n-1)H2O;

(7)反應⑧有一定的限度,D與I發生取代反應生成CPPO和HCl,則加入有機鹼三乙*能提高目標產物的產率的原因是:有機鹼三乙*能跟反應⑧的生成物HCl發生反應,使合成雙草*酯的平衡右移,故*為:有機鹼三乙*能跟反應⑧的生成物HCl發生反應,使合成雙草*酯的平衡右移。

知識點:烴的衍生物單元測試

題型:推斷題