“電漿體化學”造句，怎麼用電漿體化學造句

研究了在熱*極輝光放電電漿體化學氣相沉積金剛石膜過程中，熱*極輝光放電特*與金剛石膜沉積工藝的關係。

大電流熱*極輝光放電用於電漿體化學氣相沉積金剛石膜，有效地提高了沉積速率和膜品質。

除了傳統的由TiO2作為成反*膜的工藝外,由電漿體化學氣相沉積法(PECVD)製作的SiN是很有效的減反*膜,又是有效的表面鈍化膜。

從巨集觀粒子和微觀粒子的輸運現象及電漿體化學入手，建立了巨集觀粒子沉降過程中的純化模型。

介紹了電漿體化學工藝，特別著重介紹了濺*鍍膜與電漿體化學氣相沉積在粉末冶金中的應用。