“二元光學”造句，怎麼用二元光學造句

利用並行直寫技術與感應耦合電漿刻蝕技術製作了部分二元光學元件。

基於HIO演算法，設計了用於光束整形的二元光學元件，從兩條不同的途徑給出了高斯光束的整形結果。

綜述了二元光學元件的常用製作工藝技術，包括臺階刻蝕法、薄膜沉積法、直接寫入法、準分子鐳射加工法和灰階掩模法。

介紹了二元光學器件的阿貝數和相對*散與普通光學玻璃的差別。

採用二元光學元件的成像光譜儀結構緊湊，體積小，掃描速度快，已研製出地面實用型產品；

與二元光學元件掩模的製作工藝相比，該技術具有工藝簡單、製作週期短且易於*作的優點。

在二元光學元件鐳射直寫裝置中，主軸速度調節效果的好壞是決定刻劃效率與精度的關鍵因素之一。

衍*光學元件有很多製作方法，比較成熟的有二元光學元件加工方法和鐳射或電子束直寫技術加工方法。

二元光學元件具有多種應用，用作透鏡，在原理上*差非常大。

並將二元光學面刻畫在透鏡的表面，在校正系統初級像差的同時，實現了系統的復消*差。