實驗室用H2還原SiHCl3(沸點:31.85℃)製備純矽的裝置如圖所示(夾持裝置和尾氣處理裝置略去),下列說...
問題詳情:
實驗室用H2還原SiHCl3(沸點:31.85 ℃)製備純矽的裝置如圖所示(夾持裝置和尾氣處理裝置略去),下列說法正確的是( )
A. 裝置Ⅱ、Ⅲ中依次盛裝的是濃H2SO4、*水
B. 實驗時,應先加熱管式爐,再開啟盛裝稀硫*的分液漏斗
C. 為鑑定製得的矽中是否含微量鐵單質,用到的試劑可以為:鹽*、雙氧水、硫*化鉀溶液
D. 該實驗中製備*氣的裝置也可用於*氧化*稀溶液與*化銨固體反應制備氨氣
【回答】
【*】C
【解析】
本題製備晶體矽,H2+SiHCl3Si+3HCl,此反應應在IV裝置中進行,A、裝置I的目的是製備*氣,*氣中含有水蒸氣,對後續實驗產生干擾,必須除去,因此裝置II的目的是除去*氣中的水蒸氣,即II中盛放濃硫*,III的提供SiHCl3氣體,因此在水浴中加熱,故A錯誤;B、應先通入*氣,目的是排除裝置中的空氣,防止發生危險,故B錯誤;C、矽不與鹽*反應,鐵與鹽*反應生成Fe2+,Fe2+被H2O2氧化成Fe3+,與KSCN溶液變紅,可以鑑定是否含有鐵單質,故C正確;D、用NaOH溶液製備氨氣,需要加熱或NaOH溶液為濃溶液,I裝置中沒有加熱裝置,且NaOH溶液為稀溶液,因此此裝置不能製備氨氣,故D錯誤。
知識點:物質的分離 提純和檢驗
題型:選擇題
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