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工業上利用Ga與NH3高温條件下合成固體半導體材料氮化稼(GaN)同時有*氣生成。反應中,每生成3molH2時...

練習題1.92W

問題詳情:

工業上利用Ga與NH3高温條件下合成固體半導體材料氮化稼(GaN)同時有*氣生成。反應中,每生成3molH2時放出30.8kJ的熱量。恆温恆容密閉體系內進行上述反應, 下列有關表達正確的是

工業上利用Ga與NH3高温條件下合成固體半導體材料氮化稼(GaN)同時有*氣生成。反應中,每生成3molH2時...

A.I圖像中如果縱座標為正反應速率,則t時刻改變的條件可以為升温或加壓

B.II圖像中縱座標可以為鎵的轉化率

C.III圖像中縱座標可以為化學反應速率

D.IV圖像中縱座標可以為體系內混合氣體平均相對分子質量

【回答】

A

【詳解】

A.I圖象中如果縱座標為正反應速率,升高温度或增大壓強,反應速率增大,圖象符合題意,A正確;

B.Ga是固體,沒有濃度可言,不能計算其轉化率,B錯誤;

C.Ga是固體,其質量不影響反應速率,C錯誤;

D.反應方程式為2Ga(s)+2NH3(g)工業上利用Ga與NH3高温條件下合成固體半導體材料氮化稼(GaN)同時有*氣生成。反應中,每生成3molH2時... 第2張2GaN(s)+3H2(g)△H<0,相同壓強下,升高温度,平衡逆向移動,平均相對分子質量增大;相同温度下,增大壓強,平衡逆向移動,平均相對分子質量增大,D錯誤;

*選A。

知識點:化學平衡圖像分析

題型:選擇題

標籤:氮化 nh3 GaN 3molH2 Ga