SiCl4在室温下為無*液體，易揮發，有強烈的刺激*氣味。工業上，提純粗硅的原理如下： （1）已知：①Si(s...

問題詳情：

SiCl4在室温下為無*液體，易揮發，有強烈的刺激*氣味。工業上，提純粗硅的原理如下：

 （1）已知：① Si(s)+4HCl(g)SiCl4(g)+2H2(g) △H1=-241 kJ·mol-1

②Si(s)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g) △H2= -210 kJ·mol-1

③3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g) △H3= -akJ·mol-1

a=         。

（2）工業上，利用蒸餾水吸收尾氣中的*化*製鹽*。常用沉澱滴定法測定鹽*的濃度：取一定體積的鹽*用標準AgNO3溶液滴定，用K2CrO4溶液作指示劑。已知：298 K時Ksp(AgCl)、Ksp(Ag2CrO4)分別為 1.8×10-10、l.0×10-12。

若選擇K2CrO4為指示劑，使溶液中c(CrO42-)=0.01 mol·L-1。當產生黃*Ag2CrO4沉澱時，c(Cl-)=           mol·L-1。

（3）研究反應③最適合的反應温度，四*化硅的轉化率隨温度的變化曲線如圖所示。

①圖像中表示SiHCl3(g)的正反應速率小於SiHCl3(g)的逆反應速率的點是       (填“A”“B”或“C”)。

②温度低於500℃時，隨着温度升高，四*化硅的轉化率增大，其原因是               。

（4）一定温度下，向2L恆容密閉器中充入一定量的SiCl4(g)、H2(g)和Si(s)發生反應③，經過tmin達到平衡。測得平衡體系中H2、SiHCl3(g)的物質的量濃度分別為2mol·L-1、1 mol·L-1。

（i）從反應開始到平衡時SiCl4的平均速率為          。

（ii）在該條件下，H2的平衡轉化率為        。升髙温度，該反應的平衡常數        (填“增大”，“減小”或“不變”)。

（iii）若平衡後再向容器中充入與起始時等量的SiCl4(g)和H2(g)（假設硅足量），當反應再次達到平衡時，與原平衡相比較，H2的體積分數將         (填“增大”“減小”或“不變”)。

（iv）若平衡後，將容器的體積壓縮至1L（硅足量），再次達到平衡時，H2的物質的量濃度範圍為         。

【回答】

（1）117 （1分）（2）1.8×10-5 （2分）

（3）①C （1分）②500℃之前反應未達到平衡，升高温度，反應速率加快（1分）

（4）（i）mol·L-1·min-1 （2 分）（ii）20% （2分）減小（1 分）（iii）減小（2 分）（iV）2 mol·L-1<c（H2）<4 mol·L-1（2分）

知識點：化學的反應中的物質變化和能量變化單元測試

題型：實驗,探究題