工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、*等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3,:Si+3HCl=SiHCl3...
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工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、*等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3,:Si+3HCl=SiHCl3+H2,SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅。
有关物质的物理常数见下表:
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | SiHCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | 33.0 | — |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | -126.5 | — |
升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
(1)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4,提纯SiHCl3可采用
的方法
(2)实验室也可用SiHCl3与过量干燥的H2反应制取纯硅,装置如下图所示(加热和夹持装置略去): ①装置B中的试剂是 ,装置C需水浴加热,目的是 。 ②反应一段时间后,装置D中可观察到有晶体硅生成,装置D不能采用普通玻璃管的原因是 。
【回答】
(1)蒸馏(1分)
(2)① 浓硫*(1分), 使SiHCl3气化,与*气反应(1分) ②SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅,温度太高,普通玻璃管易熔化(2分)
知识点:物质的分离 提纯和检验
题型:实验,探究题
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